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TI 社製 OMAP2420 のゲート密度および利用度が明らかになる

カリフォルニア州サンタクララ発2006 年 6 月 14 日 - 集積回路および電子装置の技術・特許分析のリーディング企業である Semiconductor Insights (SI) は、本日、ゲート密度の解析を可能にする手法を発表し、この手法を用いて得られたTexas Instruments 社製 OMAP2420 アプリケーションプロセッサのチップ効率の概要を明らかにしました。技術マネジャー (ロジック担当) の Peter DiPaolo 氏は次のように述べています。「Mb/mm2を尺度にしたチップ効率は、メモリーのようなデバイスの基準を評価するために、以前から業界の統計数値として引用され追求されてきました。しかし、機能レベルが異なるデバイスに対して横断的に換算できる類似の尺度はまだありません。特に、ベースバンドおよびアプリケーション用プロセッサについてはまさにこのことが言えます。」「ゲート数によって、チップ上の機能全体の概略わかるので、ゲート密度を使えばはるかに有効にチップ効率を計算でき特定のデバイスを比較することができます。この分析手法で我々の技術的能力が向上できることをうれしく思っています。」 

ゲート密度とは、SI 社の解析によると、シリコンチップ単位面積 (1mm x 1mm) 当りに配置された標準セルの数と定義されています。このゲート密度は、相互に直接技術的な置換が出来ないチップを同じ場所で評価するための「有効な」チップ効率の尺度となります。IC 設計で使用する各種標準セルライブラリと比較することで、各企業は、自社のデバイスや稼動先のウェーハ工場を一層的確に評価するための、セルライブラリの精功度のレベルを決定することができます。SI 社は、ゲート密度を迅速かつ正確に、また費用効果的に決定するため、独自の回路抽出ツールとモデリングツールを活用しています。更に、これらのツールはSI社がゲートレベルでのパワーマネージメント技術を分析する上でも役立っています。

現在、ベースバンドおよびアプリケーション用プロセッサ市場の主要メーカーは 3 社あり、TI 社が出荷数の半分を占めています。TI 社の OMAP2420 プロセッサについて SI 社がゲート密度並びに利用度解析を行ったところ、ゲート密度が 63,000 セル/mm2という注目すべき値であることが判りました。「OMAP2420においては、TI 社はチップ上の機能、速度、電力効率そして低コストをうらやましい限りにうまく組み合わせて実現しています。このゲート密度の数字のために、TI社の OMAP シリーズは携帯電話機メーカーにとってきわめて魅力的な選択肢になっており、まさにそれが市場で起こっているのです。」と DiPaolo 氏は言っています。

追加情報:

Semiconductor Insights Japan について
SI Japan は1989年に設立され、2005年 1 月に正式に日本子会社となりました。原島孝氏は同社の統括マネージャーとして、東京に拠点を置く国内の技術、営業チームを率いています。SI Japan は日本のマイクロエレクトロニクス業界を対象とした大手技術コンサルタント会社で、国内 150 社以上の半導体およびエレクトロニクス企業をクライアントに持つ機会に恵まれました。また、SI Japan は、東南アジアにおいて Semiconductor Insights 社と直結した主要な存在として機能しています。詳しい情報や SI Japan K.K. へのお問い合わせにつきましては、mari.nakamura@semiconductor.com まで E メールでご連絡ください。

Semiconductor Insights 社
Semiconductor Insights (SI) は、世界的なマイクロエレクトロニクス業界を対象とした大手技術コンサルタント会社です。SI は、集積回路および電子システムの綿密な技術調査を通じて、顧客の知的財産 (IP) 権の行使、新しいテクノロジーおよび製品の開発と商品化をサポートします。主な顧客は、日本、韓国、台湾、欧州、北米の大手エレクトロニクスおよび半導体企業と、同企業の代理を務める法律事務所です。SI は、会社を創設した 1989 年以来、ほぼすべての主要な半導体特許キャンペーンに参加し、代表する顧客にはインフィニオン、インテル、TSMC、テキサス・インスツルメンツなどが含まれます。  

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"The structural analysis reports produced by Semiconductor Insights are without question the finest and most detailed studies of their kind."

Jerry Healy,
Instructor UC Berkeley Ext, College of Engineering